低壓等離子體提供了非常多的表面改性方法。對臟污組件進行精細清洗、對塑料件進行等離子活化、對 PTFE、硅進行蝕刻，以及對具有PTFE 類涂層的塑料件進行涂覆，這些是其部分應用用途。就此而言，低壓等離子體可應用于各種不同的領域，在這些領域中對材料進行鍵合或者有針對性地改變表面特性對其來說非常重要。

低壓等離子設備的應用

材料清洗：等離子體技術可為所有類型的污染物、所有基材和所有后續(xù)處理提供解決方案。此外，還能分解由分子構成的殘留污染物。

材料活化：表面具有良好的潤濕性，是確保在涂漆、粘接、印刷或者鍵合時與結合配偶體粘附的前提條件。

材料蝕刻：等離子體技術可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過化學蝕刻進行各向同性蝕刻，通過物理蝕刻進行各向異性蝕刻。

材料涂覆：使用低壓等離子體，可以改良具有不同涂層的工件。為此，會將氣態(tài)和液態(tài)原材料輸送到真空腔室中。

Diener同時還是低壓等離子設備、等離子體高頻發(fā)生器和常壓等離子體生產領域的國際市場，diener技術極其成熟，而且取得了巨大的成功，從而保證了持續(xù)性擴張。

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