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等離子去膠機(jī)是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于有機(jī)及無(wú)機(jī)殘留物的去除，去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用，清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線(xiàn)框架，提高黏附性等，它的設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。它的工藝簡(jiǎn)單、效率高，處理后無(wú)酸氣廢水等殘留......

等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材......

X射線(xiàn)光電子能譜分析X射線(xiàn)光電子能譜法（X-rayPhotoelectronSpectrom-----XPS）在表面分析領(lǐng)域中是一種嶄新的方法。雖然用X射線(xiàn)照射固體材料并測(cè)量由此引起的電子動(dòng)能的分布早在本世紀(jì)初就有報(bào)道，但當(dāng)時(shí)可達(dá)到的分辯率還不足以觀(guān)測(cè)到光電子能譜上的實(shí)際光峰。直到1958年，以Siegbahn為首的一......

優(yōu)勢(shì)一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€(gè)工藝流水線(xiàn)的處理效率；二、等離子清洗使得用戶(hù)可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。......